應(yīng)用領(lǐng)域：

　　

　　主要應(yīng)用于原濃分散體系中表征粒徑分布、Zeta電位、流變學(xué)參數(shù)、固體含量、CMP漿料，乳液、陶瓷漿料、電池漿料、水泥、藥物乳劑等。

　　

　　特點(diǎn)：

　　

　　1、測(cè)量準(zhǔn)確性高。

　　

　　礦漿中超聲衰減的改變是固體顆粒共同作用的成果，可以對(duì)超聲衰減選用直接測(cè)量方法，而非查表插值處理辦法，超聲衰減分辨率可達(dá)0.1dB，加之選用技術(shù)消除礦漿中氣泡對(duì)超聲衰減的影響，確保粒度檢測(cè)精度更。

　　

　　2、多粒級(jí)、多流道使用。

　　

　　可一起分析多至5個(gè)粒級(jí)的礦漿粒度分布，并供給濃度檢測(cè)，無(wú)需用戶額外的開支。

　　

　　3、取樣代表性高。

　　

　　豐富的現(xiàn)場(chǎng)使用經(jīng)歷可確保根據(jù)不同使用現(xiàn)場(chǎng)工藝點(diǎn)，采取不同取樣方法來(lái)確保礦漿取樣的代表性、工藝流通性，如縮分取樣器、管道取樣器等，取樣器是在積累了豐富經(jīng)驗(yàn)基礎(chǔ)上不斷改進(jìn)的成果，不僅具有實(shí)用性、可靠性而且確保長(zhǎng)周期耐磨性能。

　　

　　5、可靠性、可維護(hù)性強(qiáng)。

　　

　　體系均選用模塊化規(guī)劃，核心電子單元、機(jī)械密封部件等設(shè)計(jì)均考慮耐用性、壽數(shù)周期、維護(hù)周期等。

　　

　　6、參與閉環(huán)控制效果好。

　　

　　粒度測(cè)量速度快，測(cè)量的一致性和代表性好，使磨選工藝自動(dòng)化體系的精細(xì)化閉環(huán)控制成為可能，從而在確保工藝粒度滿意工藝要求條件下磨機(jī)處理量得以提高，帶來(lái)實(shí)質(zhì)性經(jīng)濟(jì)效益。